今やスマートフォン、薄型テレビ、ハイブリットカーといった最新デバイスの製造フローにおいて欠かせない技術となった薄膜加工技術。最先端の製造工程の要となる、超硬工具や生産ラインの量産用の金型、激しい摩擦に晒される摺動部品の表面改質に不可欠なターゲット材の提案を得意としております。その中でも、PVD方式(Physical Vapor Deposition)に使用されるターゲットを最も得意としており、アークイオンプレーティング法、スパッタリング法の両方式に対応しています。製品性能を向上させる為、お客様との共同開発にも積極的に取り組んでおりますので、圧倒的な価格でお客様のニーズを実現致します。
単一元素 | Crベース | Alベース | Tiベース | Niベース | セラミックス | ||
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製品 | C Si Cr Ti Zr Cu Al Ni W Mo Ta Nb V Y In Sn Au Ag Pt |
Cr 99.5%~99.95% CrSi CrMo CrW CrV CrB |
Al 99.9%~99.999% AlTi AlCr AlTiW AlTiTa AlCrB AlCrSiW AlCrSiC AlTiSiCrY |
Ti 99.7%~99.995% TiAl TiSi TiB TiSiV TiSiBY |
Ni 99.95% NiCr NiV NiCu NiCrAl NiCrAlY |
炭化物 | WC TiC TaC SiC |
ホウ化物 | TiB2 CrB2 TaB2 | ||||||
窒化物 | AlN BCN TiN | ||||||
酸化物 | ITO AZO NbOx TIOx ZnOx | ||||||
サイズ | •Φ63*32 Φ105*16 Φ100*32 Φ160*12 Φ300*10 •170*75*12 574*174*20 741*191*18 1000*170*12 1701*132*12 |
原料 | 純度 | 粒径 | 密度 | 処理 |
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Cr | 99.5%~ 99.95% |
<150um | >99% | HIP |
<100um | ||||
Ti | 99.7%~ 99.995% |
<150um | >99% | 溶解 |
Zr | 99.2% | <150um | >99% | 溶解 |
Nb | 99.95% | <150um | >99% | 溶解 |
Si | 99.999% | <100um | >99% | HIP |
In | 99.99% | <500um | >99% | 鋳造 |
Material | Purity | Grain Size | Density | Process |
Ti | 99.7~99.95% | <150μm | >99.8% | Melting |
Material | Purity | Grain Size | Density | Process |
Cr | 99.5~99.95% | <150μm <100μm |
>99.8% | HIP |
Composition | Grain size | Density |
Al-30Ti at% | <150μm | >99.8% |
Al-33Ti at% | <150μm | >99.8% |
Al-40Ti at% | <150μm | >99.8% |
Al-50Ti at% | <150μm | >99.8% |
Ti-25Al at% | <150μm | >99.0% |
Composition | Grain size | Density |
Al-30Cr at% | <100μm | >99.8% |
Al-40Cr at% | <100μm | >99.8% |
Al-50Cr at% | <100μm | >99.8% |