MOCVD（有機金属気相成長法）

MOCVD（Metal-Organic Chemical Vapor Deposition、有機金属気相成長法）は、固体材料や薄膜成長に使用される化学気相成長法の一種です。半導体産業や光学デバイス産業などで幅広く利用されており、特に微細な薄膜の成長に適しています。高温箇所にアローズの得意金属であるMo・W・Ta等のレアメタルが多く使用された装置を使用されています。その他、使用されるガスの種類によっては絶縁部にBNが使用されます。