PVD(物理気相成長)
物理気相成長(英語:physical vapor deposition、略称:PVD)は、物質の表面に薄膜を形成する蒸着法のひとつで、気相中で物質の表面に物理的手法により目的とする物質の薄膜を堆積する方法である。切削工具 […]
物理気相成長(英語:physical vapor deposition、略称:PVD)は、物質の表面に薄膜を形成する蒸着法のひとつで、気相中で物質の表面に物理的手法により目的とする物質の薄膜を堆積する方法である。切削工具 […]
プラズマにより金属が蒸発して周囲の反応性ガスと反応・化合して被加工物に蒸着させる。なお、従来の鍍金に比べると、密着性、表面耐久性、工程の安全性は飛躍的に向上している。蒸着金属によく用いられる金属としてチタンが挙げられる。
スパッタリングはいわゆる「乾式めっき法」(真空めっき)に分類され、コーティングする対象物を液体や高温気体にさらす事なくめっき処理が出来る。真空チャンバー内に金属をターゲットとして設置し、高電圧をかけてイオン化させた希ガス […]
様々な定義がありますが、ここでは「日本国内で調達の難しい金属」としています。
金属や酸化物などを蒸発させて、素材の表面に付着させる表面処理あるいは薄膜を形成する方法。蒸着は、物理蒸着(PVD)と化学蒸着(CVD)に大別される。