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イオン注入

イオン注入(イオン インプランテーション)は、イオンを材料に注入し、材料の物性を変化させる 製造方法である。 電子工学分野で半導体デバイスの生産に利用される他、イオン注入は物質に化学的組成の変化を与えると同時に、結晶構造の構造的な変化も与える。

イオン注入
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